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EC180蒸發鍍膜機

產品簡介本鍍膜機主要應用于大專院校、科研機構、企業實驗室及微小產品進行真空鍍膜等真空處理的工藝研究、樣板試制、操作培訓和生產。

所屬分類：

小型鍍膜機

關鍵詞： EC180蒸發鍍膜機

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產品描述

產品簡介
本鍍膜機主要應用于大專院校、科研機構、企業實驗室及微小產品進行真空鍍膜等真空處理的工藝研究、樣板試制、操作培訓和生產。具有如下特點：
a)   電阻式雙蒸發源。本機采用電阻式雙蒸發源結構，可快速實現蒸發源的轉換。
b)   桌面小型一體化結構。本機對真空腔體、鍍膜電源及控制系統進行整合設計，體積與一臺A3打印機相仿（不包含真空機組，440x240x260mm，寬X高X深），可放到手套箱中使用。
c)   雙蒸發源。蒸發單元中裝有兩組蒸發電極可安裝不同的蒸發源，適應相應的鍍膜材料。
d)   高穩定度恒流蒸發電源。本機配裝0.1%精度蒸發電源，并具有恒流輸出功能，對蒸發舟能起到很好的保護作用。
e)   鍍膜厚度與速率控制。本鍍膜機可選配本公司研制石英晶體膜厚控制儀，在鍍膜過程中可對鍍膜速率和膜層厚度進行控制。
f)   數據記錄。鍍膜機可將采集到的鍍膜數據保存到U盤，便于用戶分析控制(選配)。
g)   模塊化設計。本機將所有功能設計成標準化模塊，根據用戶不的需求對相應模塊進行組合。以達到最優化的鍍膜環境。并便于用戶維修與維護
h)   圖形化操作界面及觸屏控制。本機操作控制采用7英寸TFT顯示屏顯示操作界面，觸屏操作，實現全圖形化界面，易用易懂。

技術指標
供電電壓：AC220V/50Hz/1500W
蒸發電源功率：1000W/5V/200A
蒸發電極有效距離：50mm
樣品臺規格：直徑100mm(可旋轉)
膜厚測量精度：0.1?
外接真空機組：可選配國產或進口機組。
真空接口規格：KF40
極限真空度：3.0x10-4Pa（分子泵）
工作真空度：5.0x10-3Pa
使用環境溫度：<35℃
使用環境濕度：<75%(相對濕度)不結露
使用環境海拔：<1500m
外型尺寸： 440x240x260(寬x高x深)
重量：約47Kg不包含真空機組